 |
|
|
|
 |
|
|
|
ผลงานตีพิมพ์ในวารสารวิชาการCorrection: Awino, C., et al. Investigation of structural and electronic properties of CH3NH3PbI3 stabilized by varying concentrations of Poly(Methyl Methacrylate) (PMMA). Coatings 2017, 7, 115.ผู้แต่ง: Dr.Celine Awino, Mr.Victor Odari, Dr. Thomas Dittrich,  Dr.Pongthep Prajongtat, Assistant Professor , Dr.Thomas Sakwa, Dr.Bernd Rech, วารสาร: |
ผลงานตีพิมพ์ในวารสารวิชาการMeV ion exposure behaviour of PMMA resist polymer studied by synchrotron light spectroscopiesผู้แต่ง:Norarat, R, Jainontee, K, Thianthaisong, W, Sriwang, S, Nakajima, H, Dr.Orapin Chienthavorn, Associate Professor , Guibert, E, Whitlow, HJ, วารสาร:   
|
|
|
|
 |
|
|
|
|
ผลงานตีพิมพ์ในวารสารวิชาการWhy are hydrogen ions best for MeV ion beam lithography?ผู้แต่ง:Norarat, R, Puttaraksa, N, Napari, M, Sagari, ARA, Laitinen, M, Sajavaara, T, Yotprayoonsak, P, Pettersson, M, Dr.Orapin Chienthavorn, Associate Professor, Whitlow, HJ, วารสาร: |
|