Exact Phrase
All Words
Login
ไทย
|
English
Journal
desc:
Article
Comparison of H2O2 and H2O oxidations on TDMAT absorbed on silicon(100) surface during reaction step of ALD–TiO2 process: A DFT study
Journal
Materials Today Communications (ISSN: 23524928)
Volume
38
Issue
-
Page
108125
Year
มีนาคม 2024
Class
นานาชาติ
Journal type
-
Document type
Article
DOI
10.1016/j.mtcomm.2024.108125
Related Link
-
Author
ดร.ธนบัตร พรมจันทร์
(
ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา
)
นายมนตรี โพธิโสโนทัย, ผู้ช่วยศาสตราจารย์
(
ภาควิชาวิศวกรรมคอมพิวเตอร์
)
ดร.วรสิทธิ ศรีบุญ, อาจารย์
(
ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา
)
นายศักดิ์สิทธิ์ สุขประสงค์, ผู้ช่วยศาสตราจารย์
(
ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา
)
ดร.ภ.พึ่งบุญ ปานศิลา, ผู้ช่วยศาสตราจารย์
(
ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา
)
แสดงความคิดเห็น
(0)
Show all comment