The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application : Conference

Conference

Article

The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application

Conference

German-Thai Symposium on Nanoscience and Nanotechnology (GTSNN-2007)

Class

นานาชาติ

Date

27 - 28 กันยายน 2007

Location

ชลบุรี ประเทศไทย

DOI

มหาวิทยาลัยเกษตรศาสตร์ www.ku.ac.th

เลขที่ 50 ถนนงามวงศ์วาน แขวงลาดยาว เขตจตุจักร กรุงเทพฯ 10900

โทรศัพท์ 0-2579-0113, 0-2942-8500-11 โทรสาร 0-2942-8998