Journal

Infrared study on room-temperature atomic layer deposition of HfO2 using tetrakis(ethylmethylamino)hafnium and remote plasma-excited oxidizing agents
Journal of Vacuum Science & Technology A (ISSN: 07342101)
33
1
01A113-1-01A113-6
มกราคม 2015
นานาชาติ
-
-
http://dx.doi.org/10.1116/1.4899181
-

Author