Person Image

    Education

    • Ph.D. (Electrical Engineering and informatics), Yamagata University, JAPAN, 2559
    • M.Sc. (Physics), Faculty of Science, Burapha University, ไทย, 2553
    • B.Sc. (Physics), Faculty of Science, Burapha University, ไทย, 2548

    Expertise Cloud

    Adsorbed surfaceadsorptionALDaluminaAtomic layer depositionAtomic layer deposition (ALD)Atomic layer deposition and Sputtering Process ChitosanComputationalComputational PredictionDC Magnetron sputteringdc reactive sputteringdiffusion mechanismElectrospinningfilms thicknessGallium oxideGaNGas phaseheavy metals removalHfO2High Quality Thin Films hydrogelHydrophilicinfrared absorption spectroscopyIR absorption spectroscopylow temperature ALDMaterials for medical applicationsMIR-IRASMorphologyMorphology.NanofibersNH3 plasmaoxidizationOxygen Partial Pressurephoto-catalyst propertyPhotocatalyticPhysics of Thin Film and Thin Film TechnologyPlasmaplasma excited NH3Plasma Processing and Plasma TechnologyPlasma-excited H2OPlasma-excited NH3plasma-excited water vaporPoly(vinyl alcohol)ReactiveReactive sputteringremote plasmaremote-plasmaRenewable EnergySemiconductor ProcessingSi(100)(2?1)Simulation for Gas adsorbed SurfaceSputteringsputtering powerSurface AdsorptionSurface ChemistryTDMATThin FilmThin filmsTiO2Titanium dioxideTMGTMG adsorptiontrimethylgalliumTrimethylgallium (TMG)Ultra-High Vacuum, Physics of Vacuum and Vacuum TechnologywastewaterXPSการปลูกฟิล์มเกาส์เซียนเกาส์เซี่ยนแกลเลียมคลอไรด์ไคโตซานซิลิกอนไททาเนียมไดออกไซด์น้ำเสียบางแกลเลี่ยมแบบจาลองการดูดซับแบบจำลองการดูดซับพลาสติกใสสะท้อนแสงแบบงอได้พอลิเมอร์ชีวภาพพอลิไวนิลแอลกอฮอล์ฟิล์มบางฟิล์มบางอลูมิเนียมฟิล์มบางอลูมิเนียมออกไซด์ระบบตกตะกอนระบบสปัตเตอริงรูไทล์เลเยอร์ดีพอซิชั่นวิธีพลาสมาสปัตเตอริงอนาเทสอลูมิเนียมคลอไรด์อะตอมมิกซ์ เลเยอร์ ดีพอซิชั่นอะตอมมิกซ์ เลเยอร์ ดีพอซิชั่น (ALD)อะตอมมิคเอ็นแฮนซ์

    Interest

    Ultra-High Vacuum, Physics of Vacuum and Vacuum Technology, Physics of Thin Film and Thin Film Technology, Plasma Processing and Plasma Technology, Semiconductor Processing, Atomic layer deposition and Sputtering Process , Surface Chemistry, Materials for medical applications, Renewable Energy, Simulation for Gas adsorbed Surface, High Quality Thin Films

    Administrative Profile


      Resource

      • จำนวนหน่วยปฏิบัติการที่เข้าร่วม 0 หน่วย
      • จำนวนเครื่องมือวิจัย 0 ชิ้น

      งานวิจัยในรอบ 5 ปี

      Project

      งานวิจัยที่อยู่ระหว่างการดำเนินการ
      • ทุนใน 1 โครงการ (หัวหน้าโครงการ 1 โครงการ)
      • ทุนนอก 0 โครงการ
      งานวิจัยที่เสร็จสิ้นแล้ว
      • ทุนใน 4 โครงการ (หัวหน้าโครงการ 3 โครงการ, ผู้ร่วมวิจัย 1 โครงการ)
      • ทุนนอก 2 โครงการ (หัวหน้าโครงการ 2 โครงการ)

      แนวโน้มผลงานทั้งหมดเทียบกับแนวโน้มผลงานในรอบ 5 ปี

      Output

      • บทความ 21 เรื่อง (ตีพิมพ์ในวารสารวิชาการ 15 เรื่อง, นำเสนอในการประชุม/สัมมนา 6 เรื่อง)
      • ทรัพย์สินทางปัญญา 1 เรื่อง (อนุสิทธิบัตร 1 เรื่อง)

      แนวโน้มการนำผลงานไปใช้ประโยชน์ในด้านต่างๆ

      Outcome

      • การนำผลงานไปใช้ประโยชน์ 10 เรื่อง (เชิงวิชาการ 8 เรื่อง, เชิงนโยบาย/บริหาร 0 เรื่อง, เชิงสาธารณะ 1 เรื่อง, เชิงพาณิชย์ 1 เรื่อง)

      รางวัลที่ได้รับ

      Award

      • รางวัลที่ได้รับ 6 เรื่อง (ประกาศเกียรติคุณ/รางวัลนักวิจัย 5 เรื่อง, รางวัลผลงานวิจัย/สิ่งประดิษฐ์ 0 เรื่อง, รางวัลผลงานนำเสนอในการประชุมวิชาการ 1 เรื่อง)

      นักวิจัยที่มีผลงานงานร่วมกันมากที่สุด 10 คนแรก


      Scopus h-index

      #Document titleAuthorsYearSourceCited by
      1Influence of sputtering power on structure and photocatalyst properties of DC magnetron sputtered TiO2 thin filmPansila P., Pansila P., Witit-Anun N., Witit-Anun N., Chaiyakun S., Chaiyakun S.2012Procedia Engineering
      32,pp. 862-867
      22
      2Infrared study on room-temperature atomic layer deposition of TiO 2 using tetrakis(dimethylamino)titanium and remote-plasma-excited water vaporKanomata K., Pansila P., Ahmmad B., Kubota S., Hirahara K., Hirose F.2014Applied Surface Science
      308,pp. 328-332
      20
      3Kinetics and mechanism of adsorptive removal of copper from aqueous solution with poly(vinyl alcohol) hydrogelJamnongkan T., Kantarot K., Niemtang K., Pansila P., Wattanakornsiri A.2014Transactions of Nonferrous Metals Society of China (English Edition)
      24(10),pp. 3386-3393
      17
      4Room-temperature atomic layer deposition of ZrO 2 using tetrakis(ethylmethylamino)zirconium and plasma-excited humidified argonKanomata K., Kanomata K., Tokoro K., Imai T., Pansila P., Miura M., Ahmmad B., Kubota S., Hirahara K., Hirose F.2016Applied Surface Science
      387,pp. 497-502
      13
      5Growth kinetics for temperature-controlled atomic layer deposition of GaN using trimethylgallium and remote-plasma-excited NH 3Pansila P., Kanomata K., Kanomata K., Miura M., Ahmmad B., Ahmmad B., Kubota S., Kubota S., Hirose F., Hirose F.2015Applied Surface Science
      357,pp. 1920-1927
      9
      6Effect of poly(vinyl alcohol)/chitosan ratio on electrospun-nanofiber morphologiesJamnongkan T., Jamnongkan T., Wattanakornsiri A., Pansila P., Migliaresi C., Kaewpirom S.2012Advanced Materials Research
      463-464,pp. 734-738
      6
      7Room temperature atomic layer deposition of gallium oxide investigated by IR absorption spectroscopyPansila P., Kanomata K., Ahmmad B., Kubota S., Hirose F.2015IEICE Transactions on Electronics
      E98C(5),pp. 382-389
      5
      8Nitrogen adsorption of Si(100) surface by plasma excited ammoniaPansila P., Kanomata K., Ahmmad B., Kubota S., Hirose F.2015IEICE Transactions on Electronics
      E98C(5),pp. 395-401
      4
      9Effect of oxygen partial pressure on the morphological properties and the photocatalytic activities of titania thin films on unheated substrates by sputtering deposition methodPansila P., Witit-Anun N., Witit-Anun N., Chaiyakun S., Chaiyakun S.2013Advanced Materials Research
      770,pp. 18-21
      3