Person Image

    Education

    • Ph.D. (Electrical Engineering and informatics), Yamagata University, JAPAN, 2559
    • M.Sc. (Physics), Faculty of Science, Burapha University, ไทย, 2553
    • B.Sc. (Physics), Faculty of Science, Burapha University, ไทย, 2548

    Expertise Cloud

    Computational methodAdsorbed surfaceadsorptionALDaluminaAtomic Layer DepositionAtomic layer deposition (ALD)Atomic layer deposition and Sputtering Process Atomic layer depositionDensity functional theoryTDMATTiO2Thin filmChitosanCO2 emissionComputationalComputational PredictionDC Magnetron sputteringdc reactive sputteringdensity functional theorydiffusion mechanismElectrospinningEnergy Auditว Energy consumptionfilms thicknessGallium oxideGaNGas phasehard thin filmheavy metals removalHfO2High Quality Thin Films hydrogelHydrogen peroxideHydrophilicinfrared absorption spectroscopyIR absorption spectroscopyLighting systemlow temperature ALDMaterials for medical applicationsMIR-IRASMorphologyMorphology.NanofibersNH3 plasmaoxidizationOxygen partial pressurephoto-catalyst propertyphotocatalyticPhysics of Thin Film and Thin Film TechnologyPlasmaplasma excited NH3Plasma Processing and Plasma TechnologyPlasma-excited H2OPlasma-excited NH3plasma-excited water vaporPoly(vinyl alcohol)ReactiveReactive Sputteringremote plasmaremote-plasmaRenewable EnergySemiconductor ProcessingSi(100)(2?1)Simulation for Gas adsorbed SurfaceSpecific Energy ConsumptionSputteringsputtering powerSurface AdsorptionSurface Chemistrysurgical bladeTDMATTetrakis(dimethylamino) titaniumthin filmThin filmsTiO2TiO2 thin filmTitanium dioxidetitanium nitrideTMGTMG adsorptiontrimethylgalliumTrimethylgallium (TMG)เกาส์เซียนเกาส์เซี่ยนแกลเลียมคลอไรด์ซิลิกอนแบบจำลองการดูดซับฟิล์มบางฟิล์มบางอลูมิเนียมฟิล์มบางอลูมิเนียมออกไซด์แมกเนตรอน สปัตเตอริงระบบตกตะกอนระบบสปัตเตอริงรูไทล์เลเยอร์ดีพอซิชั่นวิธีพลาสมาสปัตเตอริงแหล่งกำเนิดไอออนอนาเทสอลูมิเนียมคลอไรด์อะตอมมิกซ์ เลเยอร์ ดีพอซิชั่นอะตอมมิกซ์ เลเยอร์ ดีพอซิชั่น (ALD)อะตอมมิคเอ็นแฮนซ์

    Interest

    Ultra-High Vacuum, Physics of Vacuum and Vacuum Technology, Physics of Thin Film and Thin Film Technology, Plasma Processing and Plasma Technology, Semiconductor Processing, Atomic layer deposition and Sputtering Process , Surface Chemistry, Materials for medical applications, Renewable Energy, Simulation for Gas adsorbed Surface, High Quality Thin Films

    Resource

    • จำนวนหน่วยปฏิบัติการที่เข้าร่วม 0 หน่วย
    • จำนวนเครื่องมือวิจัย 0 ชิ้น
    • สถานที่ปฏิบัติงานวิจัย
      • ห้อง 26602 ชั้น 6 อาคาร26 คณะวิทยาศาสตร์ ศรีราชา
      • ห้อง 26606 ชั้น 6 อาคาร26 คณะวิทยาศาสตร์ ศรีราชา
      • ห้องห้องวิจัยกำลังดำเนินการ ชั้น 2 อาคาร2

    งานวิจัยในรอบ 5 ปี

    Project

    งานวิจัยที่อยู่ระหว่างการดำเนินการ
    • ทุนใน 2 โครงการ (หัวหน้าโครงการ 2 โครงการ)
    • ทุนนอก 0 โครงการ
    งานวิจัยที่เสร็จสิ้นแล้ว
    • ทุนใน 5 โครงการ (หัวหน้าโครงการ 4 โครงการ, ผู้ร่วมวิจัย 1 โครงการ)
    • ทุนนอก 2 โครงการ (หัวหน้าโครงการ 2 โครงการ)

    แนวโน้มผลงานทั้งหมดเทียบกับแนวโน้มผลงานในรอบ 5 ปี

    Output

    • บทความ 26 เรื่อง (ตีพิมพ์ในวารสารวิชาการ 20 เรื่อง, นำเสนอในการประชุม/สัมมนา 6 เรื่อง)
    • ทรัพย์สินทางปัญญา 1 เรื่อง (ลิขสิทธิ์ 0 เรื่อง, เครื่องหมายการค้า 0 เรื่อง, อนุสิทธิบัตร 1 เรื่อง, สิทธิบัตร 0 เรื่อง)
    • สิ่งประดิษฐ์ 0 เรื่อง (ขึ้นทะเบียนพันธุ์พืช หรือพันธุ์สัตว์ หรือสิ่งประดิษฐ์ มก. 0 เรื่อง)
    • Unknown 0 เรื่อง (Unknown 0 เรื่อง)

    แนวโน้มการนำผลงานไปใช้ประโยชน์ในด้านต่างๆ

    Outcome

    • การนำผลงานไปใช้ประโยชน์ 10 เรื่อง (เชิงวิชาการ 8 เรื่อง, เชิงนโยบาย/บริหาร 0 เรื่อง, เชิงสาธารณะ 1 เรื่อง, เชิงพาณิชย์ 1 เรื่อง)

    รางวัลที่ได้รับ

    Award

    • รางวัลที่ได้รับ 6 เรื่อง (ประกาศเกียรติคุณ/รางวัลนักวิจัย 5 เรื่อง, รางวัลผลงานวิจัย/สิ่งประดิษฐ์ 0 เรื่อง, รางวัลผลงานนำเสนอในการประชุมวิชาการ 1 เรื่อง)

    นักวิจัยที่มีผลงานงานร่วมกันมากที่สุด 10 คนแรก

    Person Relation


    Scopus h-index

    #Document titleAuthorsYearSourceCited by
    1Influence of sputtering power on structure and photocatalyst properties of DC magnetron sputtered TiO2 thin filmPansila P., Pansila P., Witit-Anun N., Witit-Anun N., Chaiyakun S., Chaiyakun S.2012Procedia Engineering
    32,pp. 862-867
    36
    2Infrared study on room-temperature atomic layer deposition of TiO 2 using tetrakis(dimethylamino)titanium and remote-plasma-excited water vaporKanomata K., Pansila P., Ahmmad B., Kubota S., Hirahara K., Hirose F.2014Applied Surface Science
    308,pp. 328-332
    32
    3Kinetics and mechanism of adsorptive removal of copper from aqueous solution with poly(vinyl alcohol) hydrogelJamnongkan T., Kantarot K., Niemtang K., Pansila P., Wattanakornsiri A.2014Transactions of Nonferrous Metals Society of China (English Edition)
    24(10),pp. 3386-3393
    27
    4Room-temperature atomic layer deposition of ZrO 2 using tetrakis(ethylmethylamino)zirconium and plasma-excited humidified argonKanomata K., Kanomata K., Tokoro K., Imai T., Pansila P., Miura M., Ahmmad B., Kubota S., Hirahara K., Hirose F.2016Applied Surface Science
    387,pp. 497-502
    27
    5Effect of poly(vinyl alcohol)/chitosan ratio on electrospun-nanofiber morphologiesJamnongkan T., Jamnongkan T., Wattanakornsiri A., Pansila P., Migliaresi C., Kaewpirom S.2012Advanced Materials Research
    463-464,pp. 734-738
    17
    6Growth kinetics for temperature-controlled atomic layer deposition of GaN using trimethylgallium and remote-plasma-excited NH 3Pansila P., Kanomata K., Kanomata K., Miura M., Ahmmad B., Ahmmad B., Kubota S., Kubota S., Hirose F., Hirose F.2015Applied Surface Science
    357,pp. 1920-1927
    15
    7Room temperature atomic layer deposition of gallium oxide investigated by IR absorption spectroscopyPansila P., Kanomata K., Ahmmad B., Kubota S., Hirose F.2015IEICE Transactions on Electronics
    E98C(5),pp. 382-389
    9
    8Nitrogen adsorption of Si(100) surface by plasma excited ammoniaPansila P., Kanomata K., Ahmmad B., Kubota S., Hirose F.2015IEICE Transactions on Electronics
    E98C(5),pp. 395-401
    9
    9Kinetic study on initial surface reaction of titanium dioxide growth using tetrakis(dimethylamino)titanium and water in atomic layer deposition process: Density functional theory calculationPromjun T., Rattana T., Pansila P.P.2022Chemical Physics
    562
    8
    10Infrared study on room-temperature atomic layer deposition of HfO2 using tetrakis(ethylmethylamino)hafnium and remote plasma-excited oxidizing agentsKanomata K., Kanomata K., Ohba H., Pungboon Pansila P., Ahmmad B., Kubota S., Hirahara K., Hirose F.2015Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
    33(1)
    6
    11Effect of oxygen partial pressure on the morphological properties and the photocatalytic activities of titania thin films on unheated substrates by sputtering deposition methodPansila P., Witit-Anun N., Witit-Anun N., Chaiyakun S., Chaiyakun S.2013Advanced Materials Research
    770,pp. 18-21
    5
    12Preparation of pure anatase TiO 2 thin films by DC sputtering technique: Study on the effect of oxygen partial pressurePungboon Pansila P., Pungboon Pansila P., Witit-Anun N., Witit-Anun N., Jamnongkan T., Chaiyakun S., Chaiyakun S.2012Advanced Materials Research
    463-464,pp. 1415-1419
    4
    13Computational prediction of trimethylgallium adsorption on Si(100)(2×1) in atomic layer depositionSukhasena S., Pungboon Pansila P.2018Key Engineering Materials
    759 KEM,pp. 43-47
    4
    14ENERGY AUDIT AND EVALUATION OF SPECIFIC ENERGY CONSUMPTION OF LIGHTING SYSTEMS IN A NEW BUILDING: A KASETSART UNIVERSITY CASE STUDYSriboon W., Pansila P.P., Khunthong S., Sukprasong S.2021Applied Engineering Letters
    6(4),pp. 157-165
    3
    15Kinetic Study of Tetrakis(Dimethylamido)Titanium and Titanium Tetrachloride Adsorption on a Silicon Surface in Atomic Layer Deposition: A DFT CalculationPromjun T., Rattana T., Pungboon Pansila P.2022Integrated Ferroelectrics
    225(1),pp. 93-103
    3
    16Comparison of H2O2 and H2O oxidations on TDMAT absorbed on silicon(100) surface during reaction step of ALD–TiO2 process: A DFT studyPromjun T., Phothisonothai M., Sriboon W., Sukprasong S., Pansila P.P.2024Materials Today Communications
    38
    0