Search Result of "S. Chaiyakun"

About 12 results
Img

การประชุมวิชาการ

Chemical Analysis of Tooth Enamel after Er:YAG Laser Irradiation

ผู้แต่ง:ImgDr.Wichian Siriprom, Lecturer, ImgP.Limsuwan, ImgA. Choeysuppaket, Img N. witit-anan, Img S. Chaiyakun,

การประชุมวิชาการ:

Img
Img
Img
Img

ที่มา:วิทยาสารเกษตรศาสตร์ สาขา วิทยาศาสตร์

หัวเรื่อง:ไม่มีชื่อไทย (ชื่ออังกฤษ : Structures and Optical Properties of TiO2 Thin Films Deposited on Unheated Substrate by DC Reactive Magnetron Sputtering)

ผู้เขียน:ImgNirun Witit-anun, ImgPrasertsak Kasemanankul, ImgSurasing Chaiyakun, Imgพิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ

สื่อสิ่งพิมพ์:pdf

Abstract

Titanium dioxide thin films (TiO2) were deposited on unheated substrate on a glass slide and Si-wafer by the DC reactive magnetron sputtering method at different total pressures. The crystal structure, surface morphology and optical transmittance were characterized by X-ray diffractometer, atomic force microscopy and UV-VIS-NIR spectrophotometer, respectively. The deposited films were transparent and the thickness was about 133-168 nm. XRD results showed that all samples possessed a polycrystalline structure and changed from the mixed phase of anatase and rutile, to rutile phases, as the total pressure decreased. An increase in the film’s roughness was observed with increasing sputtering pressure. The optical transmission measurements revealed that the mixed phases of anatase and rutile had higher transmittance than the pure rutile phase. The refractive index, in the visible spectrum was relatively high, while the energy band gap was found to be 3.25 eV.

Article Info
Agriculture and Natural Resources -- formerly Kasetsart Journal (Natural Science), Volume 043, Issue 4, Oct 09 - Dec 09, Page 340 - 346 |  PDF |  Page 

Img

ที่มา:วิทยาสารเกษตรศาสตร์ สาขา วิทยาศาสตร์

หัวเรื่อง:ไม่มีชื่อไทย (ชื่ออังกฤษ : Structures and Optical Properties of TiO2 Thin Films Deposited on Unheated Substrate by DC Reactive Magnetron Sputtering)

ผู้เขียน:ImgNirun Witit-anun, ImgPrasertsak Kasemanankul, ImgSurasing Chaiyakun, Imgพิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ

สื่อสิ่งพิมพ์:pdf

Abstract

Titanium dioxide thin films (TiO2) were deposited on unheated substrate on a glass slide and Si-wafer by the DC reactive magnetron sputtering method at different total pressures. The crystal structure, surface morphology and optical transmittance were characterized by X-ray diffractometer, atomic force microscopy and UV-VIS-NIR spectrophotometer, respectively. The deposited films were transparent and the thickness was about 133-168 nm. XRD results showed that all samples possessed a polycrystalline structure and changed from the mixed phase of anatase and rutile, to rutile phases, as the total pressure decreased. An increase in the film’s roughness was observed with increasing sputtering pressure. The optical transmission measurements revealed that the mixed phases of anatase and rutile had higher transmittance than the pure rutile phase. The refractive index, in the visible spectrum was relatively high, while the energy band gap was found to be 3.25 eV.

Article Info
Agriculture and Natural Resources -- formerly Kasetsart Journal (Natural Science), Volume 043, Issue 5, Dec 09 - Dec 09, Page 340 - 346 |  PDF |  Page 

Img

Researcher

ดร. วิเชียร ศิริพรม, อาจารย์

ที่ทำงาน:ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา คณะวิทยาศาสตร์ ศรีราชา

Resume

Img
Img

Researcher

ดร. ทองใส จำนงการ, รองศาสตราจารย์

ที่ทำงาน:ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา คณะวิทยาศาสตร์ ศรีราชา

สาขาที่สนใจ:Biopolymer, ฺBiomaterials, Polymer hydrogel, Polymer blend and composite, Controlled-release and nanotechnology, Polymer synthesis and processing, Electrospinning, Rheology of soft materials, Adsorption

Resume

Img

Researcher

นางสาว รักษิกา ทองวณิชนิยม, ผู้ช่วยศาสตราจารย์

ที่ทำงาน:ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา คณะวิทยาศาสตร์ ศรีราชา

สาขาที่สนใจ:-

Resume

Img
Img

Researcher

ดร. ภ.พึ่งบุญ ปานศิลา, ผู้ช่วยศาสตราจารย์

ที่ทำงาน:ภาควิชาวิทยาศาสตร์พื้นฐานและพลศึกษา คณะวิทยาศาสตร์ ศรีราชา

สาขาที่สนใจ:Ultra-High Vacuum, Physics of Vacuum and Vacuum Technology, Physics of Thin Film and Thin Film Technology, Plasma Processing and Plasma Technology, Semiconductor Processing, Atomic layer deposition and Sputtering Process , Surface Chemistry, Materials for medical applications, Renewable Energy, Simulation for Gas adsorbed Surface, High Quality Thin Films

Resume