 ผลงานตีพิมพ์ในวารสารวิชาการWhy are hydrogen ions best for MeV ion beam lithography?ผู้แต่ง: Norarat, R, Puttaraksa, N, Napari, M, Sagari, ARA, Laitinen, M, Sajavaara, T, Yotprayoonsak, P, Pettersson, M,  Dr.Orapin Chienthavorn, Associate Professor , Whitlow, HJ, วารสาร:  
|
ผลงานตีพิมพ์ในวารสารวิชาการMeV ion exposure behaviour of PMMA resist polymer studied by synchrotron light spectroscopiesผู้แต่ง:Norarat, R, Jainontee, K, Thianthaisong, W, Sriwang, S, Nakajima, H, Dr.Orapin Chienthavorn, Associate Professor, Guibert, E, Whitlow, HJ, วารสาร:  |
|